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芯源微:涂胶显影打破垄断,湿法清洗国产先锋

来源:安信证券 作者:马良,薛辉蓉 2020-08-14 00:00:00
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国内涂胶显影设备稀缺供应商,横跨晶圆制造前后道工艺:芯源微是国内半导体设备稀缺供应商,自2002年年成立以来深耕涂胶显影设备,已经在LED芯片制造及集成电路后道先进封装等环节实现进口替代,目前正向前道扩展。2017年公司开拓单片式湿法清洗设备业务,近两年实现较快增长。根据公告,2019年两大业务收入占比分别为52%和45%。公司LED客户主要包括华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等,集成电路客户主要包括台积电、上海华力、中芯国际、长江存储、华为、华天科技、长电科技、通富微电等。新产品持续取得客户突破,新增订单也在持续交付过程中,公司作为国内半导体设备稀缺标的,产品和技术实力强劲,在国产替代背景下具备高成长性。

涂胶显影设备打破国外垄断,不断开发高端产品和客户:根据VLSI,2018年全球涂胶显影设备市场规模约为24.13亿美元,国内为9.36亿美元。其中,TEL(东京电子)在全球和中国都绝对垄断地位,在国内市占率约91%,国产厂商仅芯源微一家,占约4%,为国产替代突破口(18年,根据贝哲斯信息咨询)。芯源微的工艺范围涵盖LED芯片制造、集成电路制造后道先进封装制程以及前道的I-line、KrF、ArF等制程工艺。公司的前道涂胶显影设备已于2018年下半年分别发往上海华力、长江存储进行工艺验证。截止2019年报,公司已陆续获得了株洲中车、青岛芯恩、上海积塔、宁波中芯、昆明京东方、厦门士兰等多个客户的前道订单。

湿法清洗使用频率高,公司已由后道封装切入前道制造:湿法工艺应用于晶圆制造过程中90%以上的清洗步骤,其中单片式清洗设备的产能相对较低,但微粒去除能力较好且可以避免交叉污染。根据VLSI,2018年全球单片式湿法清洗设备规模约22.69亿美元,主要厂商为日本DNS,占比达40%以上(根据中国产业信息网);国内主要竞争对手为盛美股份,至纯科技和北方华创。公司生产的单片式湿法设备主要由清洗机、去胶机和湿法刻蚀机构成,其单片式湿法设备目前广泛用于晶圆后道封装,另外前道SpinScrubber清洗机设备已在中芯国际、上海华力等多个客户处通过工艺验证,截至目前已获得国内多家晶圆厂商的重复订单(根据19年报)。

投资建议:我们预计公司2020年~2022年收入分为3.11亿元(+46%)、5.38亿元(+73%)、7.39亿元(+37%),归母净利润分别为0.50亿元(+70.3%)、0.78亿元(+55.5%),1.23亿元(+58.1%),EPS分别为0.59元、0.92元和1.46元,对应PE分别为219倍、141倍和89倍,首次覆盖,给予买入-A投资评级。

风险提示:LED行业周期性不景气的风险;前道涂胶显影设备工艺验证及市场开拓不及预期的风险;政府补助政策的风险;新冠肺炎疫情导致需求下滑或延缓的风险。





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