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国林科技：根据技术工艺应用特点，在栅极线宽越小的产品结构中，会有很多的高深槽比以及原子级特性工艺处理的需要，因此都会涉及并涵盖，臭氧会参与其一部分

来源：同花顺iNews

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2025-07-02 16:09:01

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（原标题：国林科技：根据技术工艺应用特点，在栅极线宽越小的产品结构中，会有很多的高深槽比以及原子级特性工艺处理的需要，因此都会涉及并涵盖，臭氧会参与其一部分）

同花顺（300033）金融研究中心07月02日讯，有投资者向国林科技（300786）提问，公司的半导体臭氧设备产生的臭氧和臭氧水浓度从技术理论上能否满足7nm、5nm甚至3nm的芯片光刻工艺流程需要？

公司回答表示，尊敬的投资者，您好。根据技术工艺应用特点，在栅极线宽越小的产品结构中，会有很多的高深槽比以及原子级特性工艺处理的需要，因此都会涉及并涵盖，臭氧会参与其一部分。感谢您的关注。

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