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国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，相关工艺材料的增量增加，必然导致对于清洗设备的需求增加

来源：同花顺iNews

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2024-11-28 11:33:16

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（原标题：国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，相关工艺材料的增量增加，必然导致对于清洗设备的需求增加）

同花顺（300033）金融研究中心11月28日讯，有投资者向国林科技（300786）提问，中芯国际和华为的N+2（多重曝光）芯片制作工艺需要大量光刻胶，掩模版，以及清洗次数！对公司带来哪些潜在利润

公司回答表示，尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，相关工艺材料的增量增加，必然导致对于清洗设备的需求增加。公司将致力于产品研发，努力开拓相关市场，提升公司业绩。感谢您的关注。

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