清溢光电: 关于高端半导体掩膜版研发进展的自愿性披露公告内容摘要_股票频道

（原标题：关于高端半导体掩膜版研发进展的自愿性披露公告）

深圳清溢光电股份有限公司近期在半导体掩膜版领域取得重要进展，其55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书，收到客户采购订单（PO），产品已交货并进入客户上线认证阶段。PSM相移掩膜版主要用于对图形精度要求较高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等应用场景。若该产品通过客户认证并实现批量供货，将有助于完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升盈利能力与市场竞争力。但认证周期和结果存在不确定性，能否实现规模化供货及后续销售情况仍存风险。

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