晶合集成获得发明专利授权：“图像传感器及其形成方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“图像传感器及其形成方法”，专利申请号为CN202510840719.4，授权日为2025年8月26日。

专利摘要：本发明提供一种图像传感器及其形成方法，衬底的正面形成多个沟槽组，每个沟槽组包括两个子沟槽；去除两个子沟槽之间的至少部分间隔，以使两个子沟槽连通形成一个沟槽，构成光电感应预留区；在光电感应预留区内形成光电转换结构；执行第三刻蚀工艺，沿衬底的背面刻蚀部分衬底暴露出光电转换结构的底部和部分侧壁，光电转换结构的底部构成陷光结构，相邻光电转换结构侧壁之间的区域构成隔离区域，其中，第三刻蚀工艺为湿法刻蚀工艺。本发明意想不到的效果是，在同样像素面积的条件下，陷光结构增加了光电感应区面积，提升了图像传感器性能；湿法刻蚀工艺同时形成陷光结构和隔离区域，节省了工艺步骤并且避免了干法蚀刻工艺导致的晶格损伤。

今年以来晶合集成新获得专利授权248个，较去年同期增加了16.43%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目630次；财产线索方面有商标信息52条，专利信息1223条，著作权信息7条；此外企业还拥有行政许可21个。

数据来源：天眼查APP

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