京东方Ａ获得发明专利授权：“纹路识别模组及其制备方法和显示装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“纹路识别模组及其制备方法和显示装置”，专利申请号为CN202080003070.6，授权日为2025年7月18日。

专利摘要：一种纹路识别模组(100)，包括：基底(1)；光学传感结构(2)，位于基底(1)之上且在纹路识别区域(A)内；光路结构(3)，位于光学传感结构(2)背离基底(1)的一侧、至少在纹路识别区域(A)内且未覆盖绑定区域(C)，光路结构(3)配置为具有多个透光通道(Q)且射向光路结构(3)的光线仅能从透光通道通(Q)过；光路结构(3)包括：层叠设置的至少两层遮光层(31，31a，31b，31c)和位于每相邻两层遮光层(31，31a，31b，31c)之间的透光层(32，32a，32b)，最靠近光学传感结构(2)的遮光层(31a)上设置有呈阵列排布的第一透光孔(311a)，最远离光学传感结构(2)的遮光层(31b)上设置有与第一透光孔(311a)一一对应的第二透光孔(311b)，第一透光孔(311a)与其所对应的第二透光孔(311b)限定出透光通道(Q)，第一透光孔(311a)与其所对应的第二透光孔(311b)在基底(1)上的正投影不重叠。一种纹路识别模组(100)的制备方法和显示装置。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2128个，较去年同期减少了0.98%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

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