晶合集成获得发明专利授权：“光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置”，专利申请号为CN202510246213.0，授权日为2025年5月30日。

专利摘要：本发明提供一种光谱库的构建方法、光学关键尺寸的测量方法及装置，涉及光学关键尺寸测量技术领域，其方法包括：分别获取周期可变结构至少三个周期的第一类光谱库数据；在所述至少三个周期的第一类光谱库数据的光谱存在线性差异的情况下，根据所述第一类光谱库数据确定所述周期可变结构其余周期分别一一对应的第二类光谱库数据；整合所述第一类光谱库数据和所述第二类光谱库数据构建得到光谱库。本发明通过对周期可变结构的至少三个周期对应的结构建模得到第一类光谱库数据拟合得到其余周期对应的结构的第二类光谱库数据，减少了构建OCD测量中光谱库构建过程所需的建模次数，从而减少了光谱库的构建时间，提高了光谱库的构建效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权151个，较去年同期增加了7.86%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。