晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器”，专利申请号为CN202510038182.X，授权日为2025年5月6日。

专利摘要：本发明提供一种背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器，具体涉及半导体技术领域。所述背照式图像传感器的制备方法包括：提供衬底，并在所述衬底内形成多个沟槽；在多个所述沟槽的内壁及所述沟槽两侧的所述衬底上形成氮化物隔离层；向形成有所述氮化物隔离层的所述沟槽内填充半导体材料，以形成光电感应区；在所述衬底上形成金属互连结构，所述金属互连结构覆盖所述光电感应区；对所述衬底背离所述金属互连结构的一侧进行减薄；在所述衬底背离所述金属互连结构的一侧形成格栅结构。本发明的制备方法可以有效改善离子损伤及光学串扰问题。

今年以来晶合集成新获得专利授权120个，较去年同期增加了0.84%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。