晶合集成获得发明专利授权：“一种光学临近校正方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光学临近校正方法”，专利申请号为CN202510128108.7，授权日为2025年4月25日。

专利摘要：本发明提供了一种光学临近校正方法，应用于半导体技术领域。在本发明中，针对目标版图中的一些特殊区域，如相邻主图形之间仅可加入一辅助图形的情况，提出了一种新的辅助图形添加方式和调整形状后的辅助图形，具体可在目标主图形组的相邻主图形之间先加入一宽度与主图形的宽度相等的初始辅助图形，改变了目标版图中主图形的图形密度，使稀疏图形也具有密集图形的特性，之后再对加入的初始辅助图形进行调整，将初始辅助图形改变成内部具有多个间隔隙的目标辅助图形，以利用间隔隙减小目标辅助图形的实际宽度，减小曝光显影时目标辅助图形处的衍射光线的光强值，提高主图形的归一化对数斜率，减小边缘放置误差EPE，增大工艺窗口。

今年以来晶合集成新获得专利授权118个，较去年同期增加了9.26%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。

数据来源：天眼查APP

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