晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器”，专利申请号为CN202411987483.9，授权日为2025年4月25日。

专利摘要：本公开涉及一种背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器，涉及集成电路技术领域，包括：提供包括第一顶面的衬底，衬底的第一顶面包括沿平行于衬底第一顶面的第一方向交替排布的第一隔离叠层、第一感光叠层；第一感光叠层包括沿背离衬底的第二方向交替层叠的至少三层子感光层；于多个第一感光叠层的正上方形成多个第二感光叠层的过程中，于多个第一隔离叠层的正上方形成多个第二隔离叠层；第二感光叠层包括沿第二方向交替层叠的至少两层子感光层；于多个第二隔离叠层的正上方形成多个格栅叠层后，于沿第一方向相邻的格栅叠层之间形成滤光片。本实施例增加了感光区域的电子浓度，提高了BSI图像传感器的感光性能。

今年以来晶合集成新获得专利授权118个，较去年同期增加了9.26%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。

数据来源：天眼查APP

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