证券之星消息，根据天眼查APP数据显示盛美上海（688082）新获得一项发明专利授权，专利名为“晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备”，专利申请号为CN202510066274.9，授权日为2025年4月25日。
专利摘要：本申请提供一种晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备。清洗方法包括：旋转晶圆，向晶圆表面喷洒第一清洗液，以去除所述晶圆边缘的缓冲层，所述晶圆表面形成副产物印记；获取所述副产物印记的位置，记为标记位置；保持晶圆旋转，向所述标记位置喷洒第二清洗液，以去除所述晶圆表面的副产物印记；向所述晶圆表面喷洒冲洗液，以对所述晶圆进行冲洗。本申请的晶圆缓冲层边缘的清洗方法对晶圆表面的副产物印记进行了针对清洗，提升了晶圆的良率。
今年以来盛美上海新获得专利授权4个，较去年同期增加了100%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了7.29亿元，同比增18.47%。
数据来源：天眼查APP
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