奥比中光获得发明专利授权：“一种干涉条纹的校正方法及屏下系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种干涉条纹的校正方法及屏下系统”，专利申请号为CN202110316128.9，授权日为2025年4月4日。

专利摘要：本申请适用于图像处理的技术领域，提供一种干涉条纹的校正方法及屏下系统，所述校正方法包括：获取不同拍摄距离的校正参数集合；获取待校正图像，并计算所述待校正图像的平均深度值；在所述不同拍摄距离的校正参数集合中，选择所述平均深度值对应的目标校正参数集合；根据所述目标校正参数集合中所述不同坐标位置对应的不同的目标校正参数，校正所述待校正图像中位于所述不同坐标位置上的待校正像素点的第一像素值，得到校正后的图像。通过上述方式，基于待校正图像的平均深度值调整不同坐标位置的待校正像素点的第一像素值，以减弱干涉条纹导致采集的图像质量较差的缺陷。

今年以来奥比中光新获得专利授权24个，较去年同期减少了4%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.06亿元，同比减37.03%。

数据来源：天眼查APP

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