晶合集成获得发明专利授权：“掩模板的图案修正方法及其系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“掩模板的图案修正方法及其系统”，专利申请号为CN202411413726.8，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本公开提供了一种掩模板的图案修正方法及其系统，该图案修正方法包括：获取目标图案；对目标图案的光刻图案进行光学临近修正；判断沿第一方向相邻的光刻图案的间距是否小于预设距离，若判断结果为否，输出光刻图案；以及若判断结果为是，沿第二方向在目标图案的边缘添加辅助图案以更新目标图案或者调整辅助图案的尺寸以增大目标图案沿第二方向上的边缘长度，并返回对目标图案的光刻图案进行光学临近修正的步骤，第一方向垂直于第二方向，沿第二方向，光刻图案的尺寸随目标图案的尺寸同向变化。本公开的图案修正方法在保证光刻图案符合掩模版最小尺寸规则值的同时，可以提高目标图案的收敛度和准确度，保证光刻的准确性，进一步保证了产品的性能。

今年以来晶合集成新获得专利授权81个，较去年同期增加了26.56%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由智能算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。