晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”，专利申请号为CN202411748304.6，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本申请涉及一种背照式图像传感器及其制备方法、电子设备，涉及集成电路技术领域，包括：衬底以及位于衬底上且沿平行于衬底表面的第一方向交替排布，且沿朝向衬底方向延伸的光电二极管、叠层隔离结构。其中，光电二极管包括沿背离衬底的方向依次层叠的隔离层、第一光敏层、第二光敏层及第三光敏层；第一光敏层内包括沿第一方向间隔排布的多个第一SiP层，多个第一SiP层沿第二方向贯穿第一光敏层并延伸至隔离层。第三光敏层内包括沿第一方向间隔排布的多个第二SiP层，多个第二SiP层沿第二方向贯穿第三光敏层并延伸至第二光敏层，能够增加光生载流子数目，提高器件量子效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权81个，较去年同期增加了26.56%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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