晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”，专利申请号为CN202411756604.9，授权日为2025年3月25日。

专利摘要：本申请涉及一种背照式图像传感器及其制备方法、电子设备，涉及集成电路技术领域，包括提供衬底，衬底内包括隔离层，以及沿平行衬底表面的第一方向间隔排布的多个第一隔离结构。于衬底内形成与第一隔离结构一对一设置且经由衬底背面延伸至隔离层的第一隔离部。去除相邻第一隔离部之间的衬底，得到位于第一隔离部侧表面的侧壁半导体层，以及相邻侧壁半导体层之间的第一凹槽；侧壁半导体层的尺寸沿靠近隔离层的方向逐渐增大。于第一凹槽内形成底层光敏层，于底层光敏层上外延生长顶层光敏层。于相邻顶层光敏层之间的间隙内形成与第一隔离部连接的第二隔离部，提高光电转化效率以及量子效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权75个，较去年同期增加了17.19%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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