晶合集成获得发明专利授权：“一种优化光刻机临界尺寸均匀性的方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种优化光刻机临界尺寸均匀性的方法”，专利申请号为CN202411867983.9，授权日为2025年3月14日。

专利摘要：本发明提供一种优化光刻机临界尺寸均匀性的方法，包括以下步骤：确认光刻工艺的最小设计规格，并根据所述最小设计规格生成线宽量测图形；提供光罩，所述光罩包括芯片区域，所述芯片区域内分布有多个间距设置的所述线宽量测图形；通过光刻工艺将所述光罩中的所有所述线宽量测图形转移至晶圆上，以形成曝光单元，并量测每个所述曝光单元中所有所述线宽量测图形的线宽数据，并根据所述线宽数据对每个所述曝光单元内的临界尺寸均匀性进行补正，以改善晶圆内每个曝光单元内的临界尺寸均匀性，同时节省了切割道区域空间，有利于缩小切割道占用空间。

今年以来晶合集成新获得专利授权51个，较去年同期减少了15%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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