晶合集成获得发明专利授权：“一种掩模版的修正方法及系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种掩模版的修正方法及系统”，专利申请号为CN202411496072.X，授权日为2025年3月11日。

专利摘要：本发明提供了一种掩模版的修正方法及系统，修正方法包括以下步骤：输入多个初始主图形，根据初始主图形中的图案类型，将多个初始主图形划为重要主图形和次级主图形，其中重要主图形和次级主图形具有一级优先常量；根据初始主图形的特征关键尺寸所在的尺寸区间，为初始主图形分配二级优先常量；依次为多个初始主图形分配权重系数和优先级系数，其中优先级系数为一级优先常量、二级优先常量和权重系数的乘积；根据初始主图形的优先级系数的大小，对多个初始主图形的优先级进行排序；以及获取辅助图形的添加规则，并按照初始主图形的优先级顺序，依次添加辅助图形至掩模版上。本发明提供了一种掩模版的修正方法及系统，能够增大图形工艺窗口。

今年以来晶合集成新获得专利授权43个，较去年同期减少了27.12%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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