晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”，专利申请号为CN202411487720.5，授权日为2025年1月24日。

专利摘要：本申请涉及一种背照式图像传感器及其制备方法、电子设备，包括：衬底、格栅，以及位于衬底的第一表面上且沿平行于第一表面的第一方向交替排布，且朝向衬底延伸的光电二极管、层叠沟槽隔离结构；衬底内包括经由第一表面向衬底内延伸，且沿所述第一方向间隔排布的多个隔离结构；隔离结构与其正上方一对一设置的层叠沟槽隔离结构接触连接；格栅位于一对一设置的层叠沟槽隔离结构的正上方；光电二极管包括沿背离衬底的方向依次层叠的隔离层、SiAs层、中间光敏层、SiP盖层；中间光敏层包括沿第一方向交替排布的SiP层、SiSb层。能够避免制备光电二极管工艺中IMP造成的不必要损伤，减少暗电流，提高量子效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权6个，较去年同期增加了50%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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