京东方Ａ获得发明专利授权：“掩模板及其制作方法、有机发光装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“掩模板及其制作方法、有机发光装置”，专利申请号为CN201980002060.8，授权日为2025年1月14日。

专利摘要：公开了一种掩模板(100)及其制作方法、有机发光装置(200)的制备方法，该掩模板(100)包括基板(1)和形成于所述基板(1)上的第一开口部(2)和第二开口部(3)，所述第一开口部(2)包括直线延伸的第一侧边(4)和第二侧边(5)，所述第一侧边(4)的延伸线和所述第二侧边(5)的延伸线相交于第一顶点(6)，以构成所述第一开口部(2)的第一顶角，所述第二开口部(3)位于所述第一顶角处且向外凸出，所述第二开口部(3)的边缘与所述第一侧边(4)和所述第二侧边(5)相交，由此与所述第一开口部(2)相通，所述第一开口部(2)和所述第二开口部(3)用于对有机发光装置(200)的显示区进行蒸镀，所述第二开口部(3)用于对所述显示区的顶角蒸镀补偿。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权86个，较去年同期增加了1.18%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了58.06亿元，同比增10.24%。

数据来源：天眼查APP

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