晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器”，专利申请号为CN202411156295.1，授权日为2024年12月27日。

专利摘要：本申请涉及一种背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器，包括：提供基底，基底包括衬底、位于衬底的第一表面上的多个间隔排列的第一隔离结构，以及多个位于衬底内与第一隔离结构对应设置的第二隔离结构；基于第一隔离结构刻蚀衬底，于各第一隔离结构之间的衬底内形成多个沟槽；至少于沟槽的内侧壁及底面形成隔离层；于隔离层上形成感光叠层；其中，隔离层包围感光叠层与衬底接触的表面，且感光叠层的顶面所在的平面位于衬底的第一表面所在的平面与第一隔离结构的顶面所在的平面之间，从而扩大了感光叠层形成的感光区域的空间，增加了感光区域的电子浓度，提高了BSI图像传感器的感光性能。

今年以来晶合集成新获得专利授权287个，较去年同期增加了18.6%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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