晶合集成获得发明专利授权：“一种光刻参数优化方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光刻参数优化方法”，专利申请号为CN202410917201.1，授权日为2024年12月27日。

专利摘要：本发明提供一种光刻参数优化方法，包括以下步骤：获取同平台参考产品在预设层的曝光固有偏差，并获取目标产品在预设层的光罩固有偏差；根据同平台参考产品在预设层的曝光固有偏差和目标产品在预设层的光罩固有偏差，获得目标产品的套刻精度补值。本发明将光罩制造带来的OVL固有偏差纳入目标产品OVL补值中，取得的意想不到的技术效果为：减少了光罩制作带来的不稳定性对OVL的影响，更加全面地考量了OVL的影响因素；还根据同平台参考产品在预设层的曝光固有偏差和所述目标产品在预设层的光罩固有偏差，获得所述目标产品的OVL补值，取得的意想不到的技术效果为：可以使得目标产品的OVL补值计算更加合理。

今年以来晶合集成新获得专利授权287个，较去年同期增加了18.6%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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