晶合集成获得实用新型专利授权：“等离子反应腔室结构和等离子机台”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“等离子反应腔室结构和等离子机台”，专利申请号为CN202420279381.0，授权日为2024年12月27日。

专利摘要：本申请涉及一种等离子反应腔室结构和等离子机台，通过设置腔室本体，腔室本体内开设有反应腔，感应线圈位于腔室本体上，用于产生使气体电离的电场，注入结构固定在反应腔的腔壁上，用于向反应腔内注入气体，吸盘设置于反应腔内，用于放置待反应晶圆，并将第一磁性组件设置于反应腔的腔壁，用于产生磁场以改变等离子体中粒子在反应腔中的运动方向。由于等离子体中的粒子为带电离子，本申请通过设置第一磁性组件产生磁场，带电离子在磁场中受到洛伦兹力而改变运动方向，避免了带电离子撞向反应腔的腔壁，导致腔壁被刻蚀而产生金属粒子，从而降低反应腔内的金属含量，避免制备的器件失效。

今年以来晶合集成新获得专利授权279个，较去年同期增加了15.77%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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