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华海清科：公司CMP装备包含清洗模块，清洗技术均为公司自主研发

来源：星文 2024-12-23 17:29:58

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证券之星消息，华海清科(688120)12月23日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问：你好，请问公司CMP设备具有的超洁净清洗等功能模块是否可以独立使用？比如，光刻后的清洗；刻蚀后的清洗等。谢谢！

华海清科回复：尊敬的投资者您好！公司CMP装备包含清洗模块，清洗技术均为公司自主研发，基于公司在此领域的技术积淀和集成电路客户需求，公司积极开展清洗装备的研发工作，主要面向材料端的终端清洗市场需求。公司自主研发的清洗装备已批量用于公司晶圆再生生产，应用于4/6/8英寸化合物半导体的刷片清洗装备和12英寸单片终端清洗机已实现首台验收，清洗产品进展顺利。感谢您对公司的关注。

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