迈为股份获得实用新型专利授权：“磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示迈为股份（300751）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备”，专利申请号为CN202323341015.8，授权日为2024年12月6日。

专利摘要：本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备。磁控溅射圆柱靶包括磁轭、靶筒、中部封装壳体和至少两个边部封装壳体。其中，磁轭上设置有中部封装壳体和至少两个边部封装壳体，中部封装壳体位于至少两个边部封装壳体之间，中部封装壳体内设置有中部磁列，边部封装壳体内设置有边部磁列；每一个边部封装壳体的一侧棱与中部封装壳体的两个侧棱之间的区域共同形成一个弧面。靶筒为圆柱形，靶筒套设在磁轭的周侧，靶筒截面的圆心与弧面所在圆的圆心重合。该磁控溅射圆柱靶能够减小溅射角度，提高靶材表面的磁通量，进而提高靶材的利用率和收集率，达到节约成本的目的。

今年以来迈为股份新获得专利授权92个，较去年同期增加了15%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了4.19亿元，同比增47.24%。

数据来源：天眼查APP

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