京东方Ａ获得发明专利授权：“掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法”，专利申请号为CN201910801463.0，授权日为2024年12月13日。

专利摘要：本公开涉及一种掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法。掩膜版包括：图案区域和位于所述图案区域的边缘的第二肋，图案区域包括：多个开口，相邻的开口通过第一肋隔开；其中，所述多个开口中的至少一个开口具有非平直的第一侧边、与所述第一侧边相交的两个第二侧边和位于所述第一侧边的对侧、且与所述第二侧边相交的第三侧边，在所述第二肋上设有用于对所述第一侧边进行拉伸变形补偿的开孔，所述两个第二侧边沿第一方向向所述第二肋延伸的延伸线与所述第二肋相交得到第一区域，所述开孔至少位于所述第一区域内，所述第一方向与所述第二侧边平行，与所述第一方向垂直的第二方向与所述第三侧边平行。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2998个，较去年同期减少了9.64%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了58.06亿元，同比增10.24%。

数据来源：天眼查APP

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