晶合集成获得发明专利授权：“图像传感器及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“图像传感器及其制备方法”，专利申请号为CN202411020302.5，授权日为2024年12月13日。

专利摘要：本申请涉及一种图像传感器及其制备方法，包括提供初始半导体结构，初始半导体结构一侧外表层为阻挡层；于阻挡层上形成第一功能层；于第一功能层和阻挡层内形成多个间隔排列的第一隔离结构；于第一功能层上形成第二功能层；于第二功能层内形成多个间隔排列的第二隔离结构；第二隔离结构和第一隔离结构对应设置；于第二功能层上形成第三功能层；于第三功能层内形成多个间隔排列的第三隔离结构；第三隔离结构和第二隔离结构对应设置；对应设置的第一隔离结构、第二隔离结构和第三隔离结构成深沟槽隔离结构，相邻两个深沟槽隔离结构之间形成光电元件。采用本申请的图像传感器的制备方法可以降低制作工艺难度，并减小相邻光电元件之间的串扰。

今年以来晶合集成新获得专利授权261个，较去年同期增加了12.02%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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