四方达获得发明专利授权：“一种用于合成聚晶复合材料的绝缘材料及其制备方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示四方达（300179）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种用于合成聚晶复合材料的绝缘材料及其制备方法”，专利申请号为CN202310776341.7，授权日为2024年12月6日。

专利摘要：本发明涉及一种用于合成聚晶复合材料的绝缘材料及其制备方法，属于超硬材料合成技术领域。本发明的用于合成聚晶复合材料的绝缘材料，主要由氯化钠、氧化镁和氧化锆组成。将本发明的绝缘材料作为绝缘片用于制备聚晶复合材料时，烧结过程中，氯化钠能够在合成腔体内形成较好的熔融状态，利于温度场的均匀形成；氧化镁具备高度耐火绝缘性和良好的导热性，在烧结时不会熔融，可以在绝缘片中起到支撑及抑制熔融物流动的作用；氧化锆同样具备高度耐火绝缘性和良好的导热性，且氧化锆具备良好的传压性能，有利于腔体内压力和温度的传递。采用本发明的绝缘材料制备的聚晶复合材料不易产生变形、裂纹、分层及碳化等问题，可有效提高产品的合格率。

今年以来四方达新获得专利授权56个，较去年同期增加了30.23%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3088.28万元，同比减0.92%。

数据来源：天眼查APP

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