晶合集成获得实用新型专利授权：“一种化学气相沉积设备的排气装置及化学气相沉积设备”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种化学气相沉积设备的排气装置及化学气相沉积设备”，专利申请号为CN202420018569.X，授权日为2024年11月8日。

专利摘要：本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种化学气相沉积设备的排气装置及化学气相沉积设备，所述排气装置包括：排气壳体，开设有进气口和出气口，所述进气口和所述出气口连通以形成排气通道；以及多个分隔板，所述分隔板开设有多个通气孔，多个所述分隔板连接于所述排气通道内；其中，多个所述分隔板位于同一平面内。本实用新型结构简单，易于工业化量产应用，可改善晶圆镀膜的均匀性，提升晶圆良率，同时本实用新型还提高了设备维护的便利性。

今年以来晶合集成新获得专利授权235个，较去年同期增加了15.2%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。