久之洋获得发明专利授权：“一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示久之洋（300516）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111476204.9，授权日为2024年7月9日。

专利摘要：本发明公开了一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用。该金属反射膜，依次包括Cr膜层、Al或Ag反射层、介质保护层或增强层和防潮防霉憎水膜层，其中Cr膜层的厚度为10～50nm；当选择Ag膜层时，Cr膜层和Al膜层之间还包括Cu膜层。其制备为：基片进行基础清洗和离子束清洗，然后依次镀制Cr膜层、Al反射层(或Cu膜层和Ag反射层)、介质保护层或增强层、防潮防霉憎水膜，即得金属反射膜。该反射膜全膜系膜层应力低，膜层应力可调控，薄膜附着力、耐摩擦和环境稳定性优良，同时可根据光学元件的需求实现宽波段高反，且反射率高，可以广泛应用于对光学元件面形精度要求高、成像像质要求高的光学系统中。

今年以来久之洋新获得专利授权25个，较去年同期增加了150%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了9245.53万元，同比增21.76%。

数据来源：企查查

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