证券之星消息,根据企查查数据显示天合光能(688599)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“坩埚”,专利申请号为CN202320258366.3,授权日为2024年7月9日。
专利摘要:本申请提供一种坩埚,包括基体和复合内衬,基体中具有加热腔,复合内衬设置于加热腔的内壁;复合内衬包括连接层、过渡层以及防护层,并沿远离加热腔内壁的方向依次设置。防护层靠近加热腔内部,硅锭生成过程中坩埚内层材质会产生消耗。防护层能够保护基体,减少基体损耗。连接层用于与基体连接,二者间具有较高的连接强度,过渡层设置在连接层和防护层之间将二者相连。复合内衬的结构使其与基体间具有较高的连接强度,减少了其在生产过程中的消耗,进而延长了坩埚的使用寿命。
今年以来天合光能新获得专利授权257个,较去年同期增加了188.76%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了15.43亿元,同比增26.42%。
数据来源:企查查
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