四方达获得发明专利授权：“一种非平面PDC表面抛光设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示四方达（300179）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种非平面PDC表面抛光设备”，专利申请号为CN201910458650.3，授权日为2024年7月5日。

专利摘要：本发明涉及超硬材料PDC技术领域，具体为一种非平面PDC表面抛光设备，包括动力组件和抛光组件，所述抛光组件包括料仓、端盖和拉杆；料仓两端开设有料仓腔体，两料仓腔体端部均通过端盖配合密封圈封堵，且两端盖之间设有与料仓中段预设的通孔间隙配合的拉杆，拉杆的一端穿过对应的端盖后与动力组件连接；料仓中段于拉杆上方开设有流动通道，流动通道顶部的料仓上开设有抛光孔，流动通道连通两料仓腔体且流动通道的内径小于两料仓腔。本发明依靠抛光料的来回挤压式移动，对PDC表面形成摩擦，以达到PDC表面的抛光效果。

今年以来四方达新获得专利授权42个，较去年同期增加了27.27%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了6296.03万元，同比减1.93%。

数据来源：企查查

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