晶合集成获得发明专利授权：“图像传感器及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“图像传感器及其制备方法”，专利申请号为CN202311787086.2，授权日为2024年4月30日。

专利摘要：本申请涉及一种图像传感器的制备方法及图像传感器。图像传感器的制备方法包括：提供衬底，所述衬底设有多个间隔排布的光电元件；于所述衬底上形成隔离层；对所述隔离层进行刻蚀，形成分别与所述光电元件对应设置的多个凹槽；其中，每一所述凹槽的槽壁至少一部分为凹陷面，所述凹陷面为入射光的反射面以将所述入射光反射至所述光电元件；于所述凹槽内形成透光介质层；基于所述透光介质层去除剩余所述隔离层，以形成开口；基于所述开口形成隔离件。采用本制备方法能够提高了光电元件的通光面积。

今年以来晶合集成新获得专利授权113个，较去年同期增加了145.65%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。

数据来源：企查查

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