晶合集成获得发明专利授权：“图像传感器及其制作方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“图像传感器及其制作方法”，专利申请号为CN202410003972.X，授权日为2024年4月12日。

专利摘要：本发明提供一种图像传感器及其制作方法，所述方法包括：提供衬底，在衬底内形成阻挡层；对衬底进行离子注入，在阻挡层上形成第一光电二极管区；在衬底内形成多个隔离结构，每个隔离结构的底部均与阻挡层相接触，第一光电二极管区位于相邻隔离结构之间；在隔离结构上形成格栅；至少在衬底上形成具有掺杂元素的牺牲层，并进行快速热处理，使得掺杂元素扩散至衬底内，以在第一光电二极管区上形成第二光电二极管区。本发明采用离子注入与固相扩散相结合的方式形成光电二极管区，减小了离子注入的深度，从而能够减小由于离子注入对衬底造成的损伤，由此抑制串扰。

今年以来晶合集成新获得专利授权92个，较去年同期增加了119.05%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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