上海新阳获得发明专利授权：“等离子刻蚀清洗后中和清洗剂在清洗半导体器件中的应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“等离子刻蚀清洗后中和清洗剂在清洗半导体器件中的应用”，专利申请号为CN202111523248.2，授权日为2024年2月23日。

专利摘要：本发明公开了一种等离子刻蚀清洗后中和清洗剂在清洗半导体器件中的应用。该应用的中和清洗剂的原料包括下列质量分数的组分：1％?5％半胱氨酸、1％?5％羟胺、0.1％?0.5％EO?PO?EO嵌段共聚物L31、0.1％?1％表面活性剂B、0.1?1％螯合剂和水，水补足余量；各组分质量分数之和为100％。本发明的中和清洗剂中和力强、对金属和介质层腐蚀速率低、对杂质离子的清除效果好。

今年以来上海新阳新获得专利授权16个，较去年同期增加了77.78%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6400.07万元，同比增22.69%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成，与本站立场无关。证券之星力求但不保证该信息（包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表）全部或者部分内容的的准确性、完整性、有效性、及时性等，如存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。