证券之星消息，根据企查查数据显示光库科技（300620）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种反射式的光隔离器”，专利申请号为CN202321965294.2，授权日为2024年1月23日。
专利摘要：本实用新型提供一种一种反射式的光隔离器，包括：沿输出光路方向依次布置的第一准直器、第一双折射晶体、第一分束立方体、法拉第旋光件、旋光1/2波片、第二分束立方体和反射膜，沿反射光路方向依次布置的第二准直器、第二双折射晶体和第一分束立方体，沿回光光路方向依次布置的第三准直器、第三双折射晶体和第二分束立方体，通过直接在第二分束立方体的末端端面镀上反射膜，继而降低调试难度，且反射式光路结构紧凑，且光学器件复用带来成本低的优势，另外通过在回光光路方向设置反向光的导出光路，反向光从第三准直器导出，提高器件反向光承受能力。
今年以来光库科技新获得专利授权1个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6310.68万元，同比增39.73%。
数据来源：企查查
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