晶合集成获得发明专利授权：“确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备”，专利申请号为CN202311222006.9，授权日为2023年12月8日。

专利摘要：本发明提供了一种确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备。该方法包括：根据焦距能量矩阵和目标光刻图案的关键尺寸确定目标曝光条件；根据目标曝光条件和预设步进量确定多个第一曝光条件和多个第二曝光条件，以使得曝光设备根据目标曝光条件和多个第一曝光条件对第一晶圆进行曝光，以及根据目标曝光条件和多个第二曝光条件对第二晶圆进行曝光；获取第一晶圆在曝光过程中的多个第一目标焦距和第二晶圆在曝光过程中的多个第二目标焦距；根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第一目标焦距确定第一晶圆的第一光刻工艺窗口，并根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第二目标焦距确定第二晶圆的第二光刻工艺窗口。

今年以来晶合集成新获得专利授权231个，较去年同期增加了89.34%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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