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路维光电：公司未来计划实现14nm制程节点以上的半导体掩膜版的技术突破

来源：同花顺iNews

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2025-06-16 18:27:02

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（原标题：路维光电：公司未来计划实现14nm制程节点以上的半导体掩膜版的技术突破）

同花顺（300033）金融研究中心06月16日讯，有投资者向路维光电提问，尊敬的董秘先生：您好！美国封杀中国EDA，对公司的生产经营有什么影响？敬请回应。谢谢！

公司回答表示，尊敬的投资者，您好！美国限制对华出口部分高端EDA工具，主要影响14nm制程节点以下的生产，但对成熟工艺影响可控。国内企业正在加紧EDA突破，公司未来计划实现14nm制程节点以上的半导体掩膜版的技术突破，因此影响十分有限。感谢您的关注，祝您生活愉快！

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