【半导体掩膜版】行业市场规模：2024年中国半导体掩膜版行业市场规模近120亿元 下游半导体行业需求旺盛

（原标题：【半导体掩膜版】行业市场规模：2024年中国半导体掩膜版行业市场规模近120亿元 下游半导体行业需求旺盛）

行业主要上市公司：清溢光电(688138);路维光电(688401);中芯国际(688981);华宏半导体(01347)等;

本文核心数据：中国半导体掩膜版行业市场规模;

2024年中国半导体掩膜版行业市场规模近120亿元

掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。按应用领域来看，掩膜版可分为半导体芯片、平板显示、电路板和触控等类型。其中由于掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息，因此掩模版被广泛用于芯片的批量生产，当前半导体掩膜版也是掩膜版应用的最大下游领域。2023年中国半导体掩膜版行业市场规模超过110亿元，近五年行业复合增速为9.04%。初步估算，2024年中国半导体掩膜版行业市场规模进一步增长至近120亿元。

需求分析

从需求来看，当前半导体掩膜版下游应用的半导体行业在我国正处于快速发展的阶段，2018年以来行业规模快速增长，从仅6500亿元增长至超14000亿元的规模，行业需求潜力旺盛。受下游需求的积极推动，预计我国半导体掩膜版行业也将保持持续的增长。

产业竞争

当前中国半导体制造用掩膜版行业呈现“外资主导、本土追赶”的竞争格局。大部分市场由美国Photronics、日本Toppan和DNP三大巨头垄断，国内企业如清溢光电、路维光电、中芯国际光罩厂等主要聚焦中低端市场，工艺节点多集中在130nm以上。随着政策支持和国产替代加速，本土企业正逐步向高端制程突破，但技术差距仍需时间追赶。

更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《全球及中国掩膜版（光刻掩膜版）行业发展前景预测与投资战略规划分析报告》