首页 - 股票 - 股市直击 - 正文

汇成真空：公司原子层沉积相关设备仍在研发中

来源：同花顺iNews

同花顺iNews 更多文章 >>

2025-01-16 15:54:00

涉企侵权信息举报专区

关注证券之星官方微博：

（原标题：汇成真空：公司原子层沉积相关设备仍在研发中）

同花顺（300033）金融研究中心01月16日讯，有投资者向汇成真空（301392）提问，贵司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积（ALD）技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形成对复杂形貌的基底表面全覆盖成膜的方法，在结构复杂、薄膜厚度要求精准的先进逻辑芯片、DRAM和3D NAND制造中，ALD是必不可少的核心设备之一。先进逻辑芯片是指算力相关的芯片吗？目前公司有客户使用贵司的ALD设备吗？

公司回答表示，尊敬的投资者，您好，公司原子层沉积相关设备仍在研发中，请持续关注公司定期报告，感谢提问。

点击进入交易所官方互动平台查看更多

证券之星微信

扫描二维码

证券之星微信

相关股票：

好投资评级：

好价格评级：

证券之星估值分析提示同花顺盈利能力良好，未来营收成长性良好。综合基本面各维度看，股价偏高。更多>>

精彩推荐

内容精选

下载证券之星

郑重声明：以上内容与证券之星立场无关。证券之星发布此内容的目的在于传播更多信息，证券之星对其观点、判断保持中立，不保证该内容（包括但不限于文字、数据及图表）全部或者部分内容的准确性、真实性、完整性、有效性、及时性、原创性等。相关内容不对各位读者构成任何投资建议，据此操作，风险自担。股市有风险，投资需谨慎。如对该内容存在异议，或发现违法及不良信息，请发送邮件至jubao@stockstar.com，我们将安排核实处理。如该文标记为算法生成，算法公示请见网信算备310104345710301240019号。

网站导航 | 公司简介 | 法律声明 | 诚聘英才 | 征稿启事 | 联系我们 | 广告服务 | 举报专区

欢迎访问证券之星！请点此与我们联系版权所有： Copyright © 1996-年