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国林科技：臭氧路径提升薄膜纯度与致密度

来源：证星互动追踪 2025-12-17 08:54:14

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证券之星消息，国林科技(300786)12月16日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问：请问目前ald的两种路径，一种是水蒸气作为氧源，一种是臭氧作为氧源，均为与tma前驱体反应实现薄膜沉积。目前主流传统是采取水蒸气方式。请问公司所采取的臭氧路径相较于水蒸气，有何优势？

国林科技回复：尊敬的投资者，您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于：薄膜纯度更高、杂质更少，致密度与均匀性更佳；低温适配性强，能渗透复杂 3D 结构，且反应副产物无污染，可提升器件性能与生产效率，适配先进制程需求。感谢您的关注。

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