广立微获得发明专利授权：“一种测试结构版图处理方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种测试结构版图处理方法”，专利申请号为CN202310935352.5，授权日为2025年9月30日。

专利摘要：本发明提供一种测试结构版图处理方法，包括选取目标结构；对版图进行自动截图：定义截图时包含的图层；以所述目标结构顶层单元的名称命名截图图像，并将截图名称标注于截图图像中；获取所述目标结构的引脚名称，标注于截图图像中；预设评价截图图像分辨率的尺寸阈值，基于所述阈值，完成截图；自动生成截图文件，用于数据分析。提供了可行的自动截图方案，能够提供测试结构版图信息，截图图像直接用于数据分析，大幅提高分析速度和精准度，避免频繁查询实际版图文件，降低时间成本、提高工作效率，利于芯片测试工艺水平的深度优化。

今年以来广立微新获得专利授权56个，较去年同期增加了80.65%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.44亿元，同比增9.1%。

通过天眼查大数据分析，杭州广立微电子股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目48次；财产线索方面有商标信息132条，专利信息231条，著作权信息92条；此外企业还拥有行政许可57个。

数据来源：天眼查APP

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