京东方Ａ获得发明专利授权：“薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置”，专利申请号为CN202111429653.8，授权日为2025年8月15日。

专利摘要：本公开一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置，其中，薄膜晶体管包括：基板；第一有源层，位于基板的一侧，且具有第一中间区域和第一边缘部分，第一中间部分位于第一边缘部分之间；第二有源层，至少位于第一中间部分的表面；第一保护层，至少覆盖第一有源层的第一边缘部分；源漏极，位于第二有源层远离基板的一侧，并与第二有源层连接；栅极层，位于第二有源层远离基板的一侧，或者位于基板靠近第一有源层的表面；其中，第一有源层和第二有源层的材料不同。该薄膜晶体管可以在第一有源层和第二有源层选择任意刻蚀选择比的材料制作时，均能够具有较好的均一性，且不会出现驼峰现象，以使得该薄膜晶体管具有良好的稳定性。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2412个，较去年同期减少了0.94%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了131.23亿元，同比增15.94%。

数据来源：天眼查APP

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