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国林科技：现有半导体专用臭氧系统设备可应用于蚀刻工艺

来源：证星互动追踪 2025-08-15 15:57:29

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证券之星消息，国林科技(300786)08月15日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问：相比传统等离子蚀刻，臭氧蚀刻对基材损伤更小，适用于高精度图形化工艺。减少热应力，避免第三代半导体材料（如碳化硅）因高温导致的晶格缺陷。公司到底有没有蚀刻工艺的臭氧设备？能否用于第三代半导体制造？

国林科技回复：尊敬的投资者，您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以应用于蚀刻工艺、第三代半导体生产工艺。感谢您的关注。

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