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国林科技：半导体臭氧设备可高效去除晶圆表面污染物提升良率

来源：证星互动追踪 2025-08-15 15:57:10

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证券之星消息，国林科技(300786)08月15日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者提问：公司的半导体臭氧设备能否对提升国产晶圆及芯片的良率提供帮助？具体提高良率的原理是什么？

国林科技回复：尊敬的投资者，您好。公司自主研发的半导体专用臭氧系统设备具备高浓度、高精度、高纯度及高稳定性的技术特点。在晶圆清洗环节，臭氧水可高效去除表面有机污染物和金属杂质，避免残留物导致的电路短路或性能缺陷，臭氧气体发生器在氧化工艺中形成均匀致密的氧化层，提升器件电性能，可以有效提升产品良率。感谢您的关注。

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