广立微获得发明专利授权：“一种光刻缺陷热点图形的识别方法及图形结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光刻缺陷热点图形的识别方法及图形结构”，专利申请号为CN202110264926.1，授权日为2025年7月8日。

专利摘要：本发明提供了一种光刻缺陷热点图形的识别方法，包括：确定版图的待识别层，即目标图形所在层；预设宽度范围，识别初始边；预设第一间距范围和第二间距范围；识别第一间隔区、第二间隔区；识别第一边、第二边；将所述初始多边形中，满足一侧轮廓边为第一边并且另一侧轮廓边为第二边的多边形区域识别为目标图形，即光刻缺陷热点图形。能快捷准确的识别出光刻缺陷图形，利于改进生产工艺，步骤简洁。本发明还提供一种光刻缺陷热点图形结构，通过本发明的光刻缺陷热点图形的识别方法得到，能快速辨别图形是否有引起光刻缺陷风险。

今年以来广立微新获得专利授权44个，较去年同期增加了76%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.49%。

通过天眼查大数据分析，杭州广立微电子股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目43次；财产线索方面有商标信息132条，专利信息223条，著作权信息86条；此外企业还拥有行政许可56个。

数据来源：天眼查APP

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