广立微获得发明专利授权：“一种测试结构的版图形成方法、测试结构及可读存储介质”_股票频道

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种测试结构的版图形成方法、测试结构及可读存储介质”，专利申请号为CN202411141382.X，授权日为2025年3月21日。

专利摘要：本发明提供一种测试结构的版图形成方法、测试结构及可读存储介质，方法包括：在版图中，设计有至少两个金属层组；所述金属层组中包括多个金属层，同一个所述金属层组中的金属层设置有相同的目标图形；从每个所述金属层组中选择一个目标金属层，基于所述目标金属层中的目标图形形成所述测试结构。依据本专利所提供的一种测试结构的版图形成方法，只需要进行一次测试结构的版图设计，即能同时满足在不同金属层选择方案下进行性能监测，最大程度上满足测试需求且节省设计次数，降低出错率。

今年以来广立微新获得专利授权25个，较去年同期增加了212.5%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.32亿元，同比增41.77%。