京东方Ａ获得发明专利授权：“相移掩膜板、制备方法及膜层开孔方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“相移掩膜板、制备方法及膜层开孔方法”，专利申请号为CN202211154761.3，授权日为2025年2月11日。

专利摘要：本申请公开了一种相移掩膜板、制备方法及膜层开孔方法，该相移掩膜板包括：透明基板，透明基板上的透光区外围有遮光区及相移区；遮光区的第一遮光区在透明基板上的正投影环绕透光区；相移区在透明基板上的正投影环绕第一遮光区；第二遮光区在透明基板上的正投影环绕相移区。本申请实施例通过在透光区外围形成两个遮光区和一个相移区，使得在膜层上开孔时，由于透光区外围设置的相移区及相移区外围的第二遮光区，利用相移区实现通过光线的相位调制，抵消曝光机的衍射，提高开孔的均匀性的同时，也能够利用相移区的外围设置的第二遮光区对透光区对应的开孔之外区域的光刻胶实现保护，避免光刻胶的损失，确保后续工艺的顺利进行，提升工艺良率。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权315个，较去年同期减少了20.85%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了58.06亿元，同比增10.24%。

数据来源：天眼查APP

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