华海清科获得发明专利授权：“化学机械抛光方法、装置、设备和存储介质”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示华海清科（688120）新获得一项发明专利授权，专利名为“化学机械抛光方法、装置、设备和存储介质”，专利申请号为CN202411612205.5，授权日为2025年1月21日。

专利摘要：本申请提供了一种化学机械抛光方法、装置、设备和存储介质，该方法包括：获取晶圆抛光系统当前的抛光系统参数；通过抛光时间确定模型，确定待抛光晶圆的抛光时间；确定抛光后晶圆的抛光厚度差值；若抛光后晶圆的抛光厚度差值大于预设厚度差值阈值，根据抛光后晶圆的抛光数据对抛光时间确定模型进行更新，确定下一个待抛光晶圆的第一抛光时间；以及根据抛光后晶圆的抛光厚度差值和抛光时间，确定下一个待抛光晶圆的第二抛光时间；根据第一抛光时间和所述第二抛光时间的差异，确定下一个所述待抛光晶圆的抛光时间。本申请可以分别确定每个待抛光晶圆的抛光时间，进而提高了确定待抛光晶圆抛光时间的准确率。

今年以来华海清科新获得专利授权6个，较去年同期增加了500%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了1.71亿元，同比增23.19%。

数据来源：天眼查APP

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