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和远气体获得发明专利授权：“一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备装置及其工艺”

来源：证券之星企业动态 2025-01-15 02:31:51

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示和远气体（002971）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备装置及其工艺”，专利申请号为CN202111321362.7，授权日为2025年1月14日。

专利摘要：本发明公开了一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备装置及其工艺，以工业产品气体为原料，采用高分子渗透膜、金属阳离子交换树脂、稀土金属化合物脱水与高压精馏的结合，可将组分中CO2杂质脱除至0.1ppm以下、金属离子含量脱除至10ppt以下；所述制备工艺摆脱了现有技术对原料的依赖，在生产超高纯氯化氢气体的同时产生多种品质的氯化氢气体，尾气减少的同时易于处理，适用于工业化推广。

今年以来和远气体新获得专利授权1个。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2364.41万元，同比增25.4%。

数据来源：天眼查APP

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