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京东方A获得发明专利授权:“量子点层图案化的方法、发光器件的制作方法及相关装置”

来源:证券之星企业动态 2025-01-14 02:43:53
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示京东方A(000725)新获得一项发明专利授权,专利名为“量子点层图案化的方法、发光器件的制作方法及相关装置”,专利申请号为CN202010656714.3,授权日为2025年1月14日。

专利摘要:本发明公开了一种量子点层图案化的方法、发光器件的制作方法及相关装置,本发明首先在基底上形成包括光敏材料以及表面具有配体的量子点的膜层;然后采用预设波长的光照射量子点保留区域;由于在预设波长的光照射下,光敏材料或光敏材料在光照射后的生成物与量子点表面的配体发生反应,使配体从量子点表面脱落,没有配体的量子点的溶解性发生改变,从而使量子点发生聚沉,量子点无法再溶解于原溶剂中;最后,去除未被预设波长的光照射的膜层,以在量子点保留区域形成图案化的量子点层;与现有技术相比,本发明不需要采用喷墨打印法或光刻法即可完成量子点层的图案化,能够形成高分辨率的,性能良好的量子点。

今年以来京东方A新获得专利授权86个,较去年同期增加了1.18%。结合公司2024年中报财务数据,2024上半年公司在研发方面投入了58.06亿元,同比增10.24%。

数据来源:天眼查APP

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